Главная - Оборудование

Оборудование

ОБОРУДОВАНИЕ ЦКП

Приборная база ЦКП включает:
  • Оборудование для получения низких и сверхнизких температур
  • Оборудование для получения сильных магнитных полей
  • Оборудование для воздействия на исследуемые материалы высоким гидростатическим давлением
  • Оборудование для воздействия на исследуемые материалы сильным электрическим полем
  • Комплекс оборудования -  Уникальный стенд для исследования транспортных, сверхпроводящих, магнитных и тепловых свойств материалов в экстремальных условиях сверхнизких температур (до 20мК), высоких давлений (до 3ГПа), сильных электрических (2×108 В/м) и магнитных полей (до 21Тл) - Стенд «УНУ Экстрим»
  • Оборудование для проведения измерений импеданса в м-, см- и мм-диапазоне длин волн
  • Оборудование для проведения измерений отражения м поглощения материалов ИК-диапазоне длин волн 1мкм-1мм и температур 4,2-300К
  • Технологическое и контрольно-испытательное оборудование вспомогательных участков: криогенного, технологического, электронного, механического.

 

I. УНУ «ЭКСТРИМ» для измерения физических свойств материалов в диапазоне температур 0,01-400К и в магнитных полях до 21Т, в составе:

 

  1. Многофункциональный автоматизированный комплекс PPMS-9 для проведения измерений электрических, магнитных и тепловых свойств материалов в диапазоне температур 0.4-400К и полей 0 – 9Тесла
  2. Измерительная установка «0.3К/21Тл» для измерений проводимости, магнитосопротивления и магнитной восприимчивости в магнитном поле 21Тл при температурах 0,3-300К
  3. Установка - вибрационный магнитометр для измерений намагниченности в полях до 21Тесла и в диапазоне температур 1,4 - 300К
  4. Измерительная установка «0.3K/7Тл» для измерения магнитотранспорта и его анизотропии в магнитном поле
  5. Комплекс аппаратуры для измерений транспортных свойств материалов в диапазоне давлений 0-3ГПа
  6. Многофункциональная измерительная криомагнитная установка CFMS-16 для измерений в диапазоне температур 0,05 – 300К в полях до 16Тесла
  7. Вставка для измерений температурной зависимости химического потенциала в диапазоне температур 4,2-300К
  8. Установка по измерению переходных процессов в ВТСП устройствах и измерению критических токов в длинномерных ВТСП проводах
  9. СКВИД-магнитометр MPMS-7  для измерений намагниченности с пороговым разрешением 2×10-8emu в диапазоне температур 1,7 – 300К и полей до 7Тесла
  10. СКВИД-магнитометр ОО-1 для измерений намагниченности с пороговым разрешением 2×10-9emu в диапазоне температур 1,8 – 300К и полей до 0.25Тесла
  11. Сканирующий низкотемпературный сверхвысоковакуумный зондовый микроскоп Unisoku (T=0,4-300К; B £ 15Тесла)
  12.  Установка сверхнизких температур BlueForce BF-250LD для измерений в диапазоне температур 0,01 – 1К в полях до 1Тесла
  13.  Установка для измерений фотоэмиссии электронов с угловым разрешением Scienta R4000WAL DA30(R).  Диапазон температур  4.8-300К, источник света УФ диапазона  (21, 23 и 41 эВ)
  14. Установка для измерений спектров сверхпроводников методом андреевского отражения (диапазон температур 1,6 – 100К)

 

II. КОМПЛЕКС ОБОРУДОВАНИЯ («РЕНТГЕН») ДЛЯ РЕНТГЕНОВСКОЙ СПЕКТРОСКОПИИ в составе:

  1. Комплекс рентгеновских дифрактометров и двухкристального спектрометра
  2. Рентгеновский дифрактометр X’Pert PRO MRD («PANAlytical) для рентгеноструктурного анализа монокристаллических образцов по методу Лауэ
  3. Установка Rigaku Miniflex 600 для рентгеноструктурного анализа поликристаллических образцов по методу Дебая-Шеррера с возможностью исследования в атмосфере инертного газа
  4. Приставка INCA Energy 350XT (Oxford Instruments Analytical, UK) к микроскопу JEOL JSM-7001 для измерения локального элементного состава материалов методом энерго-дисперсионной спектрометрии (EDS).

 

III. КОМПЛЕКС HAHОТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ («НАНОЛАБ») включая:

  1. Установка Helios NanoLab 660 для нанолитографии электронным и фокусированным ионным лучом (Ga)
  2. Установка совмещения и экспонирования лазерная Heidelberg mPG101
  3. Комплекс аппаратуры для процесса оптической фотолитографии  (центрифуги, печки, установка плазменной очистки, ультразвуковые ванны, установки деионизованной воды)
  4. Установка для лазерного импульсного напыления пленок PLD/MBE модель PVD-2300 (PVD)
  5. Установка для напыления тонких металлических и диэлектрических пленок методом магнетронного распыления
  6. Установка для напыления тонких металлических и диэлектрических пленок методом магнетронного распыления и электронно-лучевого испарения «TORR»
  7. Комплекс аппаратуры для изготовления полевых МДП структур
  8. Установка электронно-лучевого напыления Plassys MEB 400
  9. Установка электронно-лучевого напыления Plassys MEB 550
  10. Кластер плазмохимического травления-осаждения и атомно-слоевого осаждения Sentech
  11. Установка для приварки контактов к образцам методом ультразвуковой микросварки
  12. Сканирующий зондовый микроскоп NT-MDT Solver-Pro
  13. Оптические микроскопы высокого разрешения для контроля наноструктур

 

Все установки расположены в гермозоне ЧПП (400м2), которая обеспечивает поддержание чистоты воздуха на уровне ISO-6 (ISO-5 локально), поддержание постоянной температуры и влажности воздуха, централизованный подвод чистого N2, локальный подвод процессных газов к установкам.

 

IV. КОМПЛЕКС ОБОРУДОВАНИЯ («СИНТЕЗ») ДЛЯ СИНТЕЗА И ТЕРМООБРАБОТКИ ОБРАЗЦОВ в составе:

  1. Комплект оборудования для твердофазного синтеза, включая: планетарную мельницу; прибор для обработки и сплавления металлов в атмосфере аргона; пилу алмазную настольную
  2. Муфельные и трубчатые печи с температурой нагрева до 1800ºС, возможностью вакуумирования или заполнения инертным газом, в том числе на поворотном штативе
  3. Сдвоенные герметичные перчаточные боксы со шлюзами, муфельной печью, шаровой мельницей, аналитическими весами для работы в инертной атмосфере
  4. Установка для выращивания стандартных образцов высокосовершенных монокристаллов методом бестигельной зонной плавки с оптическим нагревом (до 2200ºС) в атмосфере различных газов или вакууме
  5. Электронный растровый микроскоп c приставками для измерения катодолюминесценции и элементного анализа методом EDS

 

V. КОМПЛЕКС УСТАНОВОК «СПЕКТРОСКОПИЯ» ДЛЯ ОПТИЧЕСКОЙ СПЕКТРОСКОПИИ В ДИАПАЗОНЕ ДЛИН ВОЛН 193 нм – 1мм в составе:

  1. ИК Фурье-спектрометр высокого разрешения Bruker IFS 125HR на диапазон длин волн 1 – 1000 мкм
  2. ИК Фурье-спектрометр Bruker Tensor 27
  3. Инфракрасный микроскоп Bruker HYPERION 2000
  4. Гелиевый криостат для оптических измерений KONTI type Spectro A компании CRYOVAC GmbH & Co. KG (Германия)
  5. Приставка-эллипсометр Woollam VASE (США) к инфракрасному Фурье-спектрометру для измерений в диапазоне 193 нм – 2.5 мкм
  6. Высоковакуумный оптический криостат Janis CRV 725V (США) для спектрального эллипсометра Woollam VASE