Установка PLD/MBE модель PVD-2300
Установка PLD/MBE 2300 предназначена для выращивания эпитаксиальных пленок, монослоных пленочных структур, и / или комбинаторных тонких пленок и может быть легко интегрирована с широким спектром других методов напыления, таких как магнетронное распыление, эффузионные ячейки, генераторы озона, и атомные или ионные источники. Эти уникальные системы позволяют пользователю использовать для роста уникальных пленочных структур несколько методов осаждения на небольшой площади.
Источник излучение – эксимерный лазер KrF (245нм)
Частота импульсов 100Гц
Откачка камеры – безмасляная (турбонасос и спиральный насос)
Предельное остаточное давление в камере не более – 5·10-7Торр
Нагрев подложек до 850оС
Измерение температуры подложки световодным оптическим пирометром
Однородность температуры по подложке - 8С
Количество мишеней – 6 (2’’)