Предоставляемые услуги
Выполнение экспериментальных исследований и теоретических расчетов на комплексе оборудования ЦКП, включающего:
- Оборудование для получения низких и сверхнизких температур;
- Оборудование для получения сильных магнитных полей;
- Оборудование для воздействия на изучаемые материалы с помощью высокого гидростатического давления;
- Оборудование для воздействия на изучаемые материалы с помощью сильных электрических полей (“электрическое легирование”);
- Оборудование для проведения транспортных и магнитных измерений в экстремальных условиях сильных электрических и магнитных полей, низких температур и высоких давлений;
- Оборудование для оптических и СВЧ исследований в условиях низких температур, сильных электрических и магнитных полей и высоких давлений;
- Высокопроизводительные вычислительные комплексы и пакеты программ для численных расчетов электронных, фононных спектров и др. физических свойств материалов.
1 Измерение двух компонент тензора сопротивления металлических и полупроводниковых образцов и наноструктур в диапазоне температур 1,5-300К в магнитном поле до 16Т с помощью измерительной установки «16Т»
2 Измерения двух компонент тензора сопротивления металлических и полупроводниковых образцов и наноструктур в магнитном поле в диапазоне температур 0,3-300К в магнитном поле до 21Т с помощью измерительной установки «0,3К/21Т»
3 Измерения магнитной восприимчивости немагнитных образцов в диапазоне температур 1,5 - 300К и полей до 21Т с помощью измерительной установки «0,3К/21Т»
4 Измерения транспортных характеристик (сопротивление, магнитосопротивление, холловское сопротивление) металлических и полупроводниковых структур в диапазоне температур 0,35 -400К и в магнитных полях до 9Тесла с помощью многофункционального автоматизированного комплекса для измерения физических свойств «PPMS-9»
5 Измерение анизотропии магнитосопротивления (с минимальным шагом по углу 3’) металлических и полупроводниковых образцов и наноструктур в диапазоне температур 0,3-300К в магнитном поле до 16Т с помощью измерительной установки «16Т»
6 Измерения теплопроводности металлических и полупроводниковых структур в диапазоне температур 1,8-400К и в магнитных полях до 9Тесла с помощью многофункционального автоматизированного комплекса для измерения физических свойств «PPMS-9»
7 Измерения полевой и температурной зависимостей магнитного момента материалов в диапазоне температур 2 – 500К и магнитных полей до 7Тл с помощью автоматизированного СКВИД-магнитометра «MPMS-XL-7» с порогом чувствительности 10-8 emu
8 Измерения полевой и температурной зависимости DC намагниченности и AC восприимчивости немагнитных материалов в диапазоне температур 2 – 300К и магнитных полей до 21Т с помощью установки VSM-21Т
9 Измерения полевой и температурной зависимостей AC-магнитной восприимчивости материалов в диапазоне температур 0,35 – 400К и магнитных полей до 9Тл с помощью многофункционального автоматизированного комплекса для измерения физических свойств «PPMS-9»
10 Тестовые измерения AC-магнитной восприичивости материалов в диапазоне температур 4,2 – 300К в нулевом магнитном поле индуктивным методом
11 Измерения теплоемкости материалов и структур в диапазоне температур 0,4-400К и в магнитных полях до 9Тесла с помощью многофункционального автоматизированного комплекса для измерения физических свойств «PPMS-9»
12 Измерение энергетическоих щелей в спектре сверхпроводников методом многократного андреевского отражения при температурах до 1,6-300К (установка BJ)
13 Измерения изменений химического потенциала в диапазоне температур 4,2 – 300К
14 Измерения параметров решетки, толщины и состава монокристаллических эпитаксиальных квантовых ям с помощью дифрактометра X'PertPRO MRD
15 Анализ фазового состава образцов на дифрактометре Rigaku Miniflex 600
16 Измерения фазового состава поликристаллических образцов на дифрактометре ДРОН-2
17 Измерения локального элементного состава поверхности методом EDS с помощью электронного микроскопа JSM-7001FA
18 Измерения катодолюминесценции поверхности образцов с помощью электронного микроскопа JSM-7001FA
19 Измерения геометрического профиля поверхности материалов с помощью электронного микроскопа JSM-7001FA
20 Измерения геометрического и потенциального профиля поверхности проводящих материалов методом СТМ и АФМ с помощью зондового микроскопа SolverPro
21 Измерение спектров отражения и поглощения материалов в диапазоне длин волн 0,5мкм- 1мм (c разрешением до 0,01см-1) и в диапазоне температур 4,2-300К с помощью инфракрасного спектрометра сверхвысокого разрешения IFS-125HR
22 Измерение температурной и полевой зависимости компонент тензора сопротивления в диапазоне температур 0,01-1К и магнитных полей до 1 Тесла
23 Измерение рельефа поверхности с субатомным разрешением и спектра поверхностных состояний в диапазоне температур 0,37 - 77К и магнитных полей до 15Тесла с помощью низкотемпературного сверхвысоковакуумного СТМ Unisoku-1300
24 Измерения магнитного момента материалов и структур в диапазоне температур 0,4-400К и в магнитных полях до 9Тесла с помощью многофункционального автоматизированного комплекса для измерения физических свойств «PPMS-9»
25 Измерение критических токов и переходных процессов в ВТСП устройствах и проводах
26 Изготовление стандартных образцов тонких эпитаксиальных пленок YBaCuO методом лазерного напыления с фильтрацией скорости частиц
27 Изготовление полевых МДП структур на поверхности полупроводниковых и диэлектрических материалов.
28 Изготовление ВТСП материалов методом твердофазного синтеза в атмосфере инертного газа
29 Рост монокристаллов ВТСП материалов, в частности, на основе FeSe